第一三一章 同意出口
td-da将升级到-da同样的配置。
曙光通讯集团按照规划将按照td-da、-da、da2000等三大3g标准，生产拥有自主知识产权的的3g手机，向全球不同地区出售三种技术标准的曙光牌3g手机。
诺基亚、爱立信、摩托罗拉、ne、松下和三星等全球主流手机生产厂家也是采用这种模式。
第一代拥有三大3g标准的曙光牌3g手机命名曙光3（t3），第二代3g手机命名为曙光4（t4），第三代3g手机命名曙光4（t4），每代生产蓝色、绿色、粉红色、黑色和白色等五种颜色，供不同性别和年龄的消费者选购，全球统一零售价格4999元或625美元，享受五星客户服务。
乔卜斯如今还在为苹果电脑进军美国电脑销量前5位而努力，苹果公司没有进军手机产业的规划，1999年年报显示，总收入60亿美元，净利润601亿美元，每股收益157美元。
随着纳斯达克网络科技泡沫破裂，苹果公司未能幸免，股价从3月最高2604美元，跌到最低18美元，市值从最高100亿美元跌到69亿美元。
苹果公司去年中期分红，实行了1拆3的分红方案，总股本从万多股，变成了万多股；木兰投资公司持有的500万股，变成了1500万股。
苹果公司2000年第一季度财报显示，ati持有3456万股苹果股票，占股还是9%，第二大股东；马库拉持有40704万股，持股比例从114%降到106%，在高位套现了307万股，还是第一大股东。
在孙健的暗示下，向冬萍在12月30日，将木兰投资公司持有的1500万股苹果股票，在25美元全部卖出，获利378亿美元（成本价235美元），这笔投资收益占到木兰投资公司总资产（622亿美元）的近61%。
等这轮纳斯达克网络科技股泡沫破裂结束，孙健会建议向冬萍她们购买苹果公司的股票。
苹果公司只是孙健手里的一个备胎，也是一个投资品种，对成为苹果公司第一大股东没有兴趣。
-------
「孙总，我们拿到了商务部同意出口的批文。」
5月22日上午，在pga半导体公司总经理李昌杰和布罗迪陪同下，考察还在建设中的一条500n制程工艺生产线的孙健，接到余建国从美国打过来的电话。
去年9月，be生产的第一条具有自主知识产权的8英寸晶圆、
500n制程工艺的半导体生产线在pga半导体公司开工建设。
余建国昨天接到美国商务部的电话，同艾德里安一起乘飞机前往华盛顿，已经提前告诉了孙健。
孙健不在美国，书面授权余建国作为ga董事长和法人的全权代表。
「余总辛苦了，我明天带李昌杰和布罗迪过来，同ga签订正式购买协定。」
「好的，孙总！」
peng和ga董事会3月都已同意，pga半导体公司投资20亿美元（包括基建费用）规划建设一条180n制程工艺的半导体生产线；4月初，投资16亿美元从ga购买一条180n制程工艺的半导体生产线的申请已经交给美国商务部，快3个月了，今天才拿到准许出口的批文。
不是美国商务部官员办事拖拉，而是对出口一条180n制程工艺的半导体生产线给pga有些分歧。
自从ga和尼康公司研发的90n制程工艺的光刻机先后量产，财大气粗的inte、ib、ti、ad和hp近水楼台先得月，先后定购了一条价值25
亿美元（包括基建费用）的90n制程工艺的半导体生产线。
一条180n制程工艺的半导体生产线从22亿美元（包括基建费用）降到20亿美元，be如今也能量产250n制程工艺的光刻机，孙健将40台（价值4亿美元）250n制程工艺光刻机的生产订单交给be。
这条180n制程工艺的半导体生产线规划安装20台ga生产的180n制程工艺的光刻机和be生产的40台250n制程工艺的光刻机，既能节约成本，光刻效果也不受影响。
be和ga都是孙健控股的公司，作为两家公司的法人兼董事长，手掌手背都是肉。
去年11月15日，中美两国签订了中国加入世贸组织的双边协定，中国去年的gdp达到119万亿美元，只占美国gdp的121%、日本的249%，按照全球经济总量的排名来看，中国位居全球第七，排在意大利之后。
美国的头号对手还是全球经济老二的日本，继续打压日本的半导体产业。
虽然鲲鹏软件集团在全球软件市场占据20%的市场份额，但还没有对美国软件产业造成实际性的威胁，美国商务部也不容许微软公司垄断美国软件市场。
美国曙光投资公司（ati）控股的ga成了同尼康半导体公司并驾齐驱的光刻机龙头企业，研发的90n制程工艺光刻机已经量产，但在65n制程工艺上都遇到了无法克服的困难。
尼康光刻机研究院和ga光刻机研究院采用arf193n光源，研发一年多，毫无进展。
业界普遍认为193n光刻无法延伸到65n制程工艺，而157n将成为主流光源技术，但157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。
业界对下一代光刻机的发展提出了两种路线，一是以尼康和佳能等日本光刻机半导体企业，主张开发波长更低的157n的f2准分子激光做为光源；二是ga和英特尔发起建立了euv联盟，采用极紫外光源(euv)来提供波长更短的光源。
euv联盟中除了ga、英特尔和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、ad、ib，以及能源部下属三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
ga光刻机半导体研究院院长兼任光刻机光源研究所所长汤普森院士从1993年7月开始研发euv，ga前后投资了15亿美元，也没有取得成功，1997年7月自动放弃了研究。
1997年10月，汤普森院士出面邀请英特尔和美国能源部共同开发euv。
前世，英特尔邀请尼康和a加入euv联盟，但美国政府反对尼康加入，a做出多重承诺后才得到这个千载难遇的机会，资金到位，技术入场，人才云集，euv联盟也花了近20年的时间，第一台可量产的aeuv样机才正式发布。
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曙光通讯集团按照规划将按照td-da、-da、da2000等三大3g标准，生产拥有自主知识产权的的3g手机，向全球不同地区出售三种技术标准的曙光牌3g手机。
诺基亚、爱立信、摩托罗拉、ne、松下和三星等全球主流手机生产厂家也是采用这种模式。
第一代拥有三大3g标准的曙光牌3g手机命名曙光3（t3），第二代3g手机命名为曙光4（t4），第三代3g手机命名曙光4（t4），每代生产蓝色、绿色、粉红色、黑色和白色等五种颜色，供不同性别和年龄的消费者选购，全球统一零售价格4999元或625美元，享受五星客户服务。
乔卜斯如今还在为苹果电脑进军美国电脑销量前5位而努力，苹果公司没有进军手机产业的规划，1999年年报显示，总收入60亿美元，净利润601亿美元，每股收益157美元。
随着纳斯达克网络科技泡沫破裂，苹果公司未能幸免，股价从3月最高2604美元，跌到最低18美元，市值从最高100亿美元跌到69亿美元。
苹果公司去年中期分红，实行了1拆3的分红方案，总股本从万多股，变成了万多股；木兰投资公司持有的500万股，变成了1500万股。
苹果公司2000年第一季度财报显示，ati持有3456万股苹果股票，占股还是9%，第二大股东；马库拉持有40704万股，持股比例从114%降到106%，在高位套现了307万股，还是第一大股东。
在孙健的暗示下，向冬萍在12月30日，将木兰投资公司持有的1500万股苹果股票，在25美元全部卖出，获利378亿美元（成本价235美元），这笔投资收益占到木兰投资公司总资产（622亿美元）的近61%。
等这轮纳斯达克网络科技股泡沫破裂结束，孙健会建议向冬萍她们购买苹果公司的股票。
苹果公司只是孙健手里的一个备胎，也是一个投资品种，对成为苹果公司第一大股东没有兴趣。
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「孙总，我们拿到了商务部同意出口的批文。」
5月22日上午，在pga半导体公司总经理李昌杰和布罗迪陪同下，考察还在建设中的一条500n制程工艺生产线的孙健，接到余建国从美国打过来的电话。
去年9月，be生产的第一条具有自主知识产权的8英寸晶圆、
500n制程工艺的半导体生产线在pga半导体公司开工建设。
余建国昨天接到美国商务部的电话，同艾德里安一起乘飞机前往华盛顿，已经提前告诉了孙健。
孙健不在美国，书面授权余建国作为ga董事长和法人的全权代表。
「余总辛苦了，我明天带李昌杰和布罗迪过来，同ga签订正式购买协定。」
「好的，孙总！」
peng和ga董事会3月都已同意，pga半导体公司投资20亿美元（包括基建费用）规划建设一条180n制程工艺的半导体生产线；4月初，投资16亿美元从ga购买一条180n制程工艺的半导体生产线的申请已经交给美国商务部，快3个月了，今天才拿到准许出口的批文。
不是美国商务部官员办事拖拉，而是对出口一条180n制程工艺的半导体生产线给pga有些分歧。
自从ga和尼康公司研发的90n制程工艺的光刻机先后量产，财大气粗的inte、ib、ti、ad和hp近水楼台先得月，先后定购了一条价值25
亿美元（包括基建费用）的90n制程工艺的半导体生产线。
一条180n制程工艺的半导体生产线从22亿美元（包括基建费用）降到20亿美元，be如今也能量产250n制程工艺的光刻机，孙健将40台（价值4亿美元）250n制程工艺光刻机的生产订单交给be。
这条180n制程工艺的半导体生产线规划安装20台ga生产的180n制程工艺的光刻机和be生产的40台250n制程工艺的光刻机，既能节约成本，光刻效果也不受影响。
be和ga都是孙健控股的公司，作为两家公司的法人兼董事长，手掌手背都是肉。
去年11月15日，中美两国签订了中国加入世贸组织的双边协定，中国去年的gdp达到119万亿美元，只占美国gdp的121%、日本的249%，按照全球经济总量的排名来看，中国位居全球第七，排在意大利之后。
美国的头号对手还是全球经济老二的日本，继续打压日本的半导体产业。
虽然鲲鹏软件集团在全球软件市场占据20%的市场份额，但还没有对美国软件产业造成实际性的威胁，美国商务部也不容许微软公司垄断美国软件市场。
美国曙光投资公司（ati）控股的ga成了同尼康半导体公司并驾齐驱的光刻机龙头企业，研发的90n制程工艺光刻机已经量产，但在65n制程工艺上都遇到了无法克服的困难。
尼康光刻机研究院和ga光刻机研究院采用arf193n光源，研发一年多，毫无进展。
业界普遍认为193n光刻无法延伸到65n制程工艺，而157n将成为主流光源技术，但157n光刻技术同样遭遇到了来自光刻机透镜的巨大挑战。
业界对下一代光刻机的发展提出了两种路线，一是以尼康和佳能等日本光刻机半导体企业，主张开发波长更低的157n的f2准分子激光做为光源；二是ga和英特尔发起建立了euv联盟，采用极紫外光源(euv)来提供波长更短的光源。
euv联盟中除了ga、英特尔和牵头的美国能源部以外，还有摩托罗拉、ad、ib，以及能源部下属三大国家实验室劳伦斯利弗莫尔国家实验室、桑迪亚国家实验室和劳伦斯伯克利实验室。
ga光刻机半导体研究院院长兼任光刻机光源研究所所长汤普森院士从1993年7月开始研发euv，ga前后投资了15亿美元，也没有取得成功，1997年7月自动放弃了研究。
1997年10月，汤普森院士出面邀请英特尔和美国能源部共同开发euv。
前世，英特尔邀请尼康和a加入euv联盟，但美国政府反对尼康加入，a做出多重承诺后才得到这个千载难遇的机会，资金到位，技术入场，人才云集，euv联盟也花了近20年的时间，第一台可量产的aeuv样机才正式发布。
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